Admin外延片是指用外延工艺在衬底表面生长薄膜所生片的单晶硅片。一般外延层厚度为2-20微米,作为衬底的单晶硅片厚度为610微米左右。
外延工艺:外延生长技术发展于20世纪50年代末60年代初,为了制造高频大功率器件,需要减小集电极串联电阻。生长外延层有多种方法,但采用最多的是气相外延工艺,常使用高频感应炉加热,衬底置于包有碳化硅、玻璃态石墨或热分解石墨的高纯石墨加热体上,然后放进石英反应器中,也可采用红外辐照加热。为了克服外延工艺中的某些缺点,外延生长工艺已有很多新的进展:减压外延、低温外延、选择外延、抑制外延和分子束外延等。外延生长可分为多种,按照衬底和外延层的化学成分不同,可分为同质外延和异质外延;按照反应机理可分为利用化学反应的外延生长和利用物理反应的外延生长;按生长过程中的相变方式可分为气相外延、液相外延和固相外延等。
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