又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备 常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 光刻机的作用 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种...
2026-06-10
